HF Stack monitoring in Aluminium plants

De uitstoot van het aluminium smeltproces bevat schadelijke gassen voor het milieu een van deze gassen is waterstoffluoride (HF).

Het aluminium smelt proces genereert grote hoeveelheden HF gas. Het grootste deel van dit gas wordt gevangen en in een natte of droge scrubber behandeld. NEO Monitors LaserGas TM II SP HF-monitor is een uitstekend instrument voor proces- en emissiebeperking. Dit vanwege het lage detectielimiet van HF gas, korte responstijd en minimale onderhoud.

Bij HF emissies gelden er steeds strengere nationale en regionale regels. Dit komt door de vraag naar toxische gasmetingen in de omgeving met de nadruk op veiligheid.

Proces
Primaire Aluminium wordt geproduceerd door reductie van aluminiumoxide door elektrolyse in een bad van gesmolten Kryoliet. Aluminiumfluoride (AlF3) is één van de toevoegingen die gebruikt worden om het smeltpunt te verlagen. De toevoeging van AlF3 resulteert in waterstoffluoride (HF).

Een droge scrubber wordt meestal gebruikt om HF uit het “offgas” te halen. Dit gebeurt door het te mengen met verse (primaire) aluminiumoxide. De gasvormige HF bindt zich aan het primaire aluminiumoxide en de HF verrijkte aluminiumoxide wordt verzameld in een “bag filter”. Hierna wordt het getransporteerd naar het proces voor gebruik in het elektrolyseproces.

Procesgegevens

HF Concentratie	200-400 mg/m3 (scrubber inlet)
	0-1 mg/m3 (Droge scrubber outlet/stack)
	<0.1 mg/m3 (nat scrubber outlet/stack)
Temperatuur	100-150C
Druk	Atmosferisch
Optisch Path Length	1-6 meter

Documentatie

Combustion HF Stack Monitoring in Aluminium Plants