Moderne semiconductor deposition processes werken routinematig bij kamerdruk ver onder de atmosfeer en benaderd de single-digit Torr range. Tegelijkertijd neemt de procestemperatuur continu af. Onder deze omstandigheden zorgt restvocht in de kamer voor een ernstige bedreiging voor de kwaliteit en productieopbrengst.

Tiger Optics 'nieuwe HALO QRP is geoptimaliseerd om te werken onder lage druk omstandigheden en leveren nauwkeurige en betrouwbare real-time meting om vocht residu te controleren in bijvoorbeeld: de load lock, de overdracht en proces kamers voordat H2O verontreinigingen in gevaar worden gebracht en de daaropvolgende processtappen. Op basis van Tiger Optics 'bewezen Continuous-Wave Cavity Ring-Down Spectroscopy (CW-CRDS) technologie, zet de HALO QRP nieuwe maatstaven in het gemak van het gebruik en de meetnauwkeurigheid voor deze toepassing.

Ontworpen voor  traceringsniveau in vochtbepaling met lage druk (<50 Torr) applicaties, de HALO QRP biedt:

• Vocht detectie bij partial druk van 1 μTorr en lager
• Absolute nauwkeurigheid en uitstekende precisie
• Breed dynamisch bereik - meer dan vier ordes van grootte
• Lage kosten van bezit en operationele eenvoud
• Schone technologie - geen externe kalibratiegassen vereist
• Compacte analyzer footprint, ook beschikbaar als OEM-module voor apparatuur / systeemintegratie

Documentatie